2021年7月13日，在上海精測(cè)半導(dǎo)體技術(shù)有限公司成立三周年之際，經(jīng)過(guò)全體精測(cè)人的努力拼搏，迎 來(lái)了屬于自己的榮耀時(shí)刻：國(guó)內(nèi)首臺(tái)12寸獨(dú)立式光學(xué)線(xiàn)寬測(cè)量設(shè)備（OCD）與國(guó)內(nèi)唯一12寸全自動(dòng) 電子束晶圓缺陷復(fù)查設(shè)備（Review SEM）順利出機(jī)。

國(guó)內(nèi)首臺(tái)12寸獨(dú)立式光學(xué)線(xiàn)寬測(cè)量機(jī)臺(tái)

12 寸獨(dú)立式光學(xué)線(xiàn)寬測(cè)量機(jī)臺(tái) (OCD) 是該類(lèi)型的國(guó)內(nèi)首臺(tái)機(jī)臺(tái)，主要用于 45nm 以下、特別是 28nm 平面CMOS 工藝的量測(cè)，并可以延伸支持上述先進(jìn)工藝節(jié)點(diǎn)的快速線(xiàn)寬測(cè)量。EPROFILE 300FD 測(cè)量系統(tǒng)擁有完全自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)，包括寬譜全穆勒橢偏測(cè)頭、對(duì)焦對(duì)位系統(tǒng)、系統(tǒng)軟件等核心零部件均為自主研發(fā)，是真正意義上的高端國(guó)產(chǎn)化機(jī)臺(tái)。

配套 EPROFILE 300FD，上海精測(cè)還同時(shí)發(fā)布了新一代電磁場(chǎng)仿真建模工具 J_ProfilerTM V3.0 ；該款軟件允許用戶(hù)在數(shù)百核的高速建模運(yùn)算服務(wù)器上進(jìn)行 OCD 建模與庫(kù)匹配，可以在獲取復(fù)雜三維納米結(jié)構(gòu)光譜變化信息后，實(shí)時(shí)高速的對(duì)于納米結(jié)構(gòu)的各個(gè)維度精確值進(jìn)行計(jì)算。

EPROFILE 300FD 和 J_ProfilerTM V3.0 將為國(guó)內(nèi)高節(jié)點(diǎn)產(chǎn)線(xiàn)提供穩(wěn)定、實(shí)時(shí)、高速的量測(cè)解決方案。

12寸全自動(dòng)電子束晶圓缺陷復(fù)查設(shè)備

12寸全自動(dòng)電子束晶圓缺陷復(fù)查設(shè)備（ReviewSEM）是上海精測(cè)半導(dǎo)體的另一項(xiàng)主力產(chǎn)品。公司從底層開(kāi)發(fā)做起，掃描電子顯微鏡、配套掃描成像電路等關(guān)鍵核心部件均為自主設(shè)計(jì)，自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)，并用了近兩年的時(shí)間打通了電子顯微鏡核心零部件加工的國(guó)產(chǎn)化供應(yīng)鏈。此次出廠(chǎng)的機(jī)臺(tái)配備了基于深度學(xué)習(xí)的高準(zhǔn)確率智能化自動(dòng)缺陷檢測(cè)與分類(lèi)算法，將進(jìn)一步幫助客戶(hù)提升缺陷復(fù)查分析的效率并顯著提升設(shè)備使用的便捷性。

上海精測(cè)半導(dǎo)體技術(shù)有限公司通過(guò)自主構(gòu)建研發(fā)團(tuán)隊(duì)及海外并購(gòu)引入國(guó)產(chǎn)化等手段，實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體測(cè)試、制程設(shè)備的技術(shù)突破及產(chǎn)業(yè)化，成為全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體測(cè)試設(shè)備供應(yīng)商及服務(wù)商。通過(guò)與多家知名研發(fā)中心、大學(xué)院校開(kāi)展合作，共同開(kāi)發(fā)新型檢測(cè)解決方案，提升國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體檢測(cè)裝備行業(yè)的技術(shù)水平。